본 발명은, 처리 용기 내의 가스 분사기의 관의 길이 방향에 있어서의 가스의 공급량을 균등화하는 것이 가능한 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는, 처리 용기와, 처리 용기 내에 배치되어, 복수의 기판을 배열해서 보유 지지하는 기판 보유 지지구와, 복수의 기판이 배열되는 방향을 따라 신장되는 관을 갖고, 처리 용기 내에 가스를 공급하는 가스 분사기를 구비하고, 가스 분사기는, 관의 길이 방향을 따라, 복수의 기판이 배열되는 구간에 마련되어, 가스를 공급하는 적어도 하나의 제1 분사 구멍과, 관의 선단에 있어서, 관의 유로 단면적보다도 작은 면적으로, 길이 방향에 대하여 비스듬히 개구되도록 마련되는 복수의 제2 분사 구멍을 갖는다.