Loading...
p-형 질화갈륨계 화합물 반도체의 제조방법, 질화갈륨계 화합물 반도체에 함유된 p-형 도판트의 활성화 방법, 질화갈륨계 화합물 반도체 디바이스 및 질화갈륨계 화합물 반도체 발광 디바이스
구분
특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2012-08-01
취득구분 등록
기술분류
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-1171817
출원(등록)번호 10-2010-0016425
출원형태
발명자수 3
DOI 값
주요내용
본원은, 전기화학적 정전위법(electrochemical potentiostatic method)을 이용하여 질화갈륨계 화합물 반도체에 함유된 p-형 도판트를 활성화시킴으로써 p-형 질화갈륨계 화합물 반도체 층의 정공 농도를 증가시키고 전기적 특성을 개선할 수 있는 방법을 제공하고 이러한 방법을 이용하여 제조되는 질화갈륨계 화합물 반도체 디바이스 및 발광 디바이스를 제공하고자 한다.
발명자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 이준기 | 전남대학교 신소재공학부 |