Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

Loading...

특허 리스트

다반응성 환형 실록산 화합물, 상기 화합물로부터 제조된 실록산계 중합체 및 이를 이용한 절연막 형성 방법

구분 특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2006-12-20
취득구분 등록
기술분류
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-0660265
출원(등록)번호 10-2004-0042522
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
특허 이미지

본 발명은 다반응성 환형 실록산 화합물 (A), 상기 화합물 (A)로부터 제조된 실록산계 중합체 및 상기 중합체를 이용한 절연막 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 모듈러스 등 기계적 물성이 뛰어나고 탄소함량 및 흡습률이 보다 낮은 중합체를 제공할 수 있는 신규한 다반응성 환형 실록산 화합물 (A), 상기 화합물 (A)또는 상기 화합물 (A)와 유기다리를 가지는 Si 단량체 (B), 비환식 (acyclic) 알콕시 실란 단량체 (C) 및/또는 선형의 실록산 단량체 (D)로부터 제조된 실록산계 (공)중합체 및 상기 (공)중합체들을 이용한 절연막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실록산 화합물은 높은 반응성을 가지며, 그로부터 제조된 중합체는 우수한 기계적 물성, 열안정성 및 균열 저항성을 가질 뿐만 아니라, 낮은 흡습률을 나타내며 기공형성물질과의 상용성도 우수하여 낮은 절연계수를 가질 수 있고, 나아가, 중합체 내에 탄소함량이 낮고 SiO 2 의 함량이 높아 반도체 공정에로의 적용성이 향상되어 반도체 소자의 절연막으로써 유용하게 사용될 수 있다.

발명자 정보

이름 소속
정현담 전남대학교 화학과