본 발명은 클러스터 화합물 또는 이의 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 결합과 해리가 용이한 표면 분자를 도입하여 클러스터 화합물의 화학적 안정성을 확보하면서도 현저히 향상된 EUV 민감도를 가져, 우수한 민감도로 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 클러스터 화합물 또는 이의 염을 제공한다.