본 발명은 주석 함유 실세스퀴옥산계 고분자 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상세하게 기존 HSQ의 구조를 유지하면서 실리콘 원자 일부를 주석으로 치환하여 고해상도 및 고민감도로 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 주석 함유 실세스퀴옥산계 고분자 화합물을 제공한다.