본 발명은 주석-산소 이중결합을 포함하는 주석 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 노광시 유기 금속 화합물의 유기 리간드가 해리되어 금속 분자 간의 첨가 반응이 일어나는 단계를 포함하는 포토레지스트 패턴의 형성 방법을 제공한다.