본 발명은 신규한 유기스태닐 실리케이트 화합물, 이의 제조방법에 관한 것으로 본 발명에 따른 유기스태닐 실리케이트 화합물을 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이들을 이용한 포토레지스트 패턴 형성방법을 제공한다. 본 발명의 유기스태닐 실리케이트 화합물은 우수한 광 민감도 및 내식각성을 갖는 포토레지스트 조성물을 구현할 수 있으며, 이를 이용하여 고품질의 반도체 소자를 제조할 수 있어 산업적으로 매우 유용하다.