본 발명은 안정화된 금속산화물 무기염 나노클러스터에 의해 전자빔 또는 극자외선과 같은 낮은 파장의 광에 대하여 우수한 광흡수성, 식각 내성 및 높은 기계적 강도를 가질 수 있고, 이에 의해 고해상도 및 고감도의 포토레지스트 특성을 제공할 수 있는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 상세하게 포토레지스트용 조성물은 금속산화물을 포함하고, 하기 화학식 1을 만족하는 무기화합물 클러스터; 및 용매;를 포함한다. (화학식 1) [M x O y (OH) z (H 2 O) k ]A 화학식 1에서 M은 주석(Sn), 인듐(In), 안티몬(Sb) 및 하프늄(Hf) 중에서 선택되는 어느 하나 이상이고, x, y, z 및 k는 각각 3≤ x 003c# 21, 0 003c# y 003c# 48, 1 ≤ z 003c# 48 및 0 ≤ k 003c# 48를 만족하며, A는 무기 음이온이다.