본 발명은 치밀질 산화물 박막 제조기술에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 산화물의 유일한 음이온인 산소이온과 동일한 산화수와 유사한 이온 크기를 갖는 황화이온을 이용하여 수 마이크론 두께 이하로 치밀질 산화물 막을 제조할 수 있는 황화이온을 이용한 치밀질 산화물 박막 제조방법에 관한 것이다.