본 발명은 유/무기 고분자전해질 복합막 및 그 제조방법에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 나노 실리카 입자가 균일하게 막 내에 분포하는 구조를 통해 낮은 바나듐 투과도 특성을 갖는 유/무기고분자전해질복합막 및 그 제조방법에 관한 것이다.