멤커패시터의 제조 방법이 제공된다. 상기 멤커패시터의 제조 방법은, 스트론튬 티탄산염(SrTiO 3 )을 포함하는 기판을 준비하는 단계, 상기 기판 상에, 펄스드 레이저 증착법(Pulsed Laser Deposition, PLD)을 통해 스트론튬 루테늄 산화물(SrRuO 3 )을 포함하는 제1 전극을 형성하는 단계, 상기 제1 전극 상에, 펄스트 레이저 증착법을 통해 비스무스 페라이트(BiFeO 3 )를 포함하는 강유전층을 형성하는 단계, 및 상기 강유전층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 제1 전극은 상기 기판으로부터 에피택셜 성장(epitaxial growth)되고, 상기 강유전층은 상기 제1 전극으로부터 에피택셜 성장되는 것을 포함할 수 있다.