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자속고정점을 가지는 초전도체 박막 제작 장치 및 초전도체 박막

구분 특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2023-10-26
취득구분 등록
기술분류 기계
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2018-0111037
출원(등록)번호 10-2018-0111037
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
특허 이미지

본 발명은 펄스 레이저 증착기술을 적용하여 초전도체 박막과 자속고정점 소재의 증착을 동시에 수행하는 것에 의해 저비용 및 고효율로 향상된 특징의 자속고정점을 가지는 초전도체 박막을 제작할 수 있도록 하는 자속고정점을 가지는 초전도체 박막 제작 장치 및 초전도체 박막에 관한 것이다. 상술한 본 발명의 자속고정점을 가지는 초전도체 박막 제작 장치는, 스퍼터링을 위한 펄스 레이저를 생성하여 조사하는 펄스레이저광원부; 초전도체 소재와 자속고정점 소재를 다중 타겟으로 구비하여, 초전도체 박막 스퍼터링증착과 자속고정점 소재 스퍼터링증착을 번갈아 수행하는 스퍼터링타겟부; 초전도체 층의 증착과, 증착된 초전도체 층에 상기 자속고정점 소재가 산화물로 삽입되는 과정이 반복 수행되어 복수의 자속고정점을 가지는 초전도체 층이 적층된 초전도체 박막이 증착 형성되는 기판; 상기 펄스 레이저가 투과되는 투과창이 형성되고, 상기 스퍼터링타겟부와 상기 기판이 내부에 배치되며, 내부를 진공으로 하는 진공펌프부를 포함하여 구성되는 진공챔버; 및 상기 펄스레이저광원부와 스퍼터링타겟부 및 상기 진공펌프부를 제어하는 제어부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

발명자 정보

이름 소속
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