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고분자 프레임의 유기용매 가소화 공정을 통한 3 차원 전자소자 및 이의 제조방법

구분 특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2019-10-29
취득구분 등록
기술분류 화학
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2018-0030484
출원(등록)번호 10-2018-0030484
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
특허 이미지

본 발명의 일 실시 예 고분자 프레임의 용매가소화 공정을 통한 3차원 전자소자 및 이의 제조방법은 바닥면이 다각형으로 형성되고 상기 바닥면 각각의 모서리로부터 연장 형성되는 인접면을 포함하도록 전개도로 이루어진 고분자 프레임 및 상기 고분자 프레임에 전사되는 유연전자소자를 포함하되, 상기 고분자 프레임은 유기용매 증기에 노출되어 영률이 변화되는 것을 특징으로 한다.

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