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싸이올화 헤파린 및 골형성단백질-2 (BMP-2)로 표면개질된 폴리에테르에테르케톤 (PEEK)을 포함하는 임플란트 재료 및 그 제조방법
구분
특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2024-12-02
취득구분 등록
기술분류 생명과학
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2021-0155989
출원(등록)번호 10-2021-0155989
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
본 발명은 싸이올화 헤파린 및 골형성단백질-2 (BMP-2)로 표면개질된 폴리에테르에테르케톤 (PEEK)을 포함하는 임플란트 재료 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면개질된 폴리에테르에테르케톤 (PEEK)을 포함하는 임플란트 재료는 비용이 저렴하고 취급이 간편하며 복잡한 모양의 임플란트에도 적용할 수 있고, 비개질 PEEK 에 대비하여BMP-2 를 효율적으로 로딩하고, 더 긴 시간 동안 방출할 수 있어 전 조골세포의 골유착 및 골형성 활성을 개선하여 치과 또는 정형외과 임플란트로서 유용하게 사용될 수 있다.
발명자 정보
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