Research Hub

대학 자원

대학 인프라와 자원을 공유해 공동 연구와 기술 활용을 지원합니다.

Loading...

특허 리스트

비휘발성 저항 변화 메모리 소자의 제조방법

구분 특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2012-04-09
취득구분 등록
기술분류 전기/전자
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2010-0001681
출원(등록)번호 10-2010-0001681
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
특허 이미지

비휘발성 저항 변화 메모리 소자를 제공한다. 상기 소자는 제1 전극과 제2 전극을 구비한다. 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 산화물막이 위치한다. 상기 산화물막과 상기 제2 전극 사이에 반응성 금속막이 위치하되, 상기 반응성 금속막은 300K를 기준으로 산화물 형성 반응시 표준자유에너지 변화량이 -100 kJ 이하인 금속을 함유하며 2 내지 15㎚의 두께를 갖는다.

발명자 정보

이름 소속
등록된 데이터가 없습니다.