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카바이드계 고체 전해질막을 구비하는 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법

구분 특허/실용/디자인/상표
특허등록일자 2011-04-28
취득구분 등록
기술분류 전기/전자
지식재산유형 국내출원
등록번호(특허) 10-2008-0093399
출원(등록)번호 10-2008-0093399
출원형태
발명자수 1
DOI 값
주요내용
특허 이미지

고온에서 안정적인 메모리 특성을 갖는 카바이드계 고체 전해질막을 구비하는 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법이 개시되어 있다. 저항 변화 메모리 소자는 하부전극, 하부전극 상에 배치된 카바이드계 고체 전해질막 및 고체 전해질막 상에 배치된 상부전극을 포함한다. 또한, 저항 변화 메모리 소자의 제조방법은 기판 상에 하부전극을 형성하는 단계, 하부전극 상에 카바이드계 고체 전해질막을 형성하는 단계 및 고체 전해질막 상에 상부전극을 형성하는 단계를 포함한다. 카바이드계 고체 전해질막, 저항 변화 메모리 소자, 스퍼터링

발명자 정보

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