본 발명은 반도체 소자의 제조 장치 및 반도체 소자의 제조 방법을 개시한다. 그의 제조 장치는 공정 챔버, 상기 공정 챔버 내에 오존을 제공하는 오존 공급부, 상기 오존 공급부 내에 상기 오존의 소스 가스를 제공하는 산소 공급부, 및 상기 산소 공급부와 상기 오존 공급부 사이에 제공되어 상기 소스 가스 내의 비활성 기체를 검출하는 불순물 검출부들을 포함한다.