선택된 열적외선(IR) 파장 방사선 및 에너지를 광범위한 프로세싱 용도들을 위해 아티클 내로 직접적으로 주입하기 위한 시스템이 제공된다. 이들 용도들은 여러 산업, 의료, 소비자, 또는 상업적인 상황들의 범위에서 타겟 아이템을 자극하는 것, 또는 아티클들을 가열, 온도 상승 또는 유지하는 것을 포함할 수 있다. 상기 시스템은 특히 특정하게 선택된 파장에서 조사하거나 방사선을 펄싱 또는 주입하는 능력을 필요로 하거나 그 능력으로부터 이익을 얻는 동작들에 적용 가능하다. 상기 시스템은 타겟이 보다 높은 속도들로 기능을 하고, 상기 타겟들과의 비-접촉 환경일 때 특히 유용하다.