치과 임플란트 표면처리용 플라즈마 생성 챔버가 개시된다. 상기 치과 임플란트 표면처리용 플라즈마 생성 챔버는 임플란트를 수용하는 챔버; 챔버의 상부에 결합되어 임플란트의 상부에 배치되는 상부전극; 챔버 및 상부전극을 수용하는 외부하우징; 외부하우징의 상단에 밀폐되는 하우징덮개; 및 챔버의 하부에 결합되어 임플란트의 하부에 배치되며, 하단부가 챔버의 하부 및 외부하우징의 하부 외측으로 노출되는 하부전극을 포함하고, 상기 챔버는, 임플란트를 지지하는 환형의 중심지지부, 중심지지부의 외면에 그 둘레방향을 따라 형성되는 오링홈, 및 중심지지부 외측에 환형으로 형성되는 바디끼움부를 포함하고, 중심지지부의 중심에 하부전극 삽입되어 결합되는 바텀부; 환형의 헤드지지부 및 헤드지지부로부터 수직으로 연장되는 측면부를 포함하고, 측면부의 하단이 바디끼움부로 삽입되어 하단의 내면이 중심지지부의 외면에 밀착되는 바디부; 오링홈 내에 삽입되어 측면부의 내면에 밀착되는 오링; 헤드지지부에 지지되어 바디부의 상부를 밀폐하며, 상부전극이 중심에 결합되는 헤드부; 및 헤드부의 하단 및 헤드지지부의 상면 사이에 개재되는 헤드씰을 포함하는 것을 특징으로 한다.