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2006
자발형성된 양극산화 알루미늄 나노구조를 이용한 나노패턴 SiNx박막 제작 Fabrication of Nano-Patterned SiNx Thin Films with Self-Assembled Anodized Aluminum Nano-Structure
한국물리학회
박준모, 류상완
논문정보
Publisher
새물리
Issue Date
2006-02-01
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
52
Number
II
Start Page
232
End Page
236
DOI
ISSN
03744914
Abstract
알루미늄 양극산화를 통해 형성된 다공성 Anodic Aluminum Oxide (AAO)을 이용하여 대량생산이 가능한 top-down 방식의 나노패턴 제작공정을 연구하였다. 양극산화 공정조건을 조절하여 AAO 막의 두께, 구멍의 크기와 패턴간격을 제어하였고, 그 결과 100-200 nm 주기의 균일한 육방격자구조의 나노패턴을 형성할 수 있었다. 또한 AAO 막을 식각 마스크로 사용하여 GaAs 기판위에 성장된 SiNx 박막에 나노패턴을 제작하였다. 방향성이 우수한 식각특성을 갖는 reactive ion etching을 이용하여 구멍크기의 변화 없이 나노패턴을 전사할 수 있었다.

저자 정보

이름 소속
박준모 물리학과
류상완 물리학과