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2013
고주파 마그네트론 스퍼터링법에 의해 제작된 ITZO (indium tin zinc oxide) 박막의 전기적 및 광학적 특성
Electrical and Optical Properties of ITZO Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
한국정보통신학회
강성준, 정양희 외 1명
논문정보
- Publisher
- 한국정보통신학회논문지
- Issue Date
- 2013-08-31
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 17
- Number
- 8
- Start Page
- 1873
- End Page
- 1878
- DOI
- ISSN
- 22344772
Abstract
본 연구에서는 RF magnetron sputtering 법으로 상온에서 공정압력 (1∼7mTorr) 을 변화시켜가며 유리기판 (Eagle 2000) 위에 ITZO (In2O3:SnO2:ZnO=90wt.%:5wt.%:5wt.%) 박막을 제작하여, 구조적 특성과 광학적 및 전기적 특성을 조사하였다. XRD 와 FESEM 측정을 통해, 공정압력에 무관하게 모든 ITZO 박막이 부드러운 표면의 비정질 구조를 가지고 있음을 확인할 수 있었다. 공정압력 3mTorr 에서 증착한 ITZO 박막이 비저항 3.08×10-4Ω·cm, 가시광 영역에서 평균 투과도 81% 와 재료평가지수 10.52×10-3Ω-1 의 가장 우수한 전기적 및 광학적 특성을 나타내었다.
- 전남대학교
- KCI
- 한국정보통신학회논문지
저자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 강성준 | 전기컴퓨터공학부 |
| 정양희 | 전기컴퓨터공학부 |