본 연구에서는 Nb2O5/SiO2 이중 버퍼층위에 ITO박막을 증착하여, SiO2버퍼층 두께 변화(40∼50nm)에 따른 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다. Nb2O5/SiO2 이중 버퍼층을 도입한 ITO박막의 표면 거칠기는 0.815 에서 1.181nm범위의 작은 값을 가지는 매끄러운 형상을 보였고, 면저항은 99.3∼134.0Ω/sq.범위로 정전용량식 터치스크린 패널에 적용하는데 문제가 없는 것으로 나타났다. 특히 Nb2O5(10nm)/SiO2(40nm) 이중 버퍼층을 삽입한 ITO박막의 단파장(400∼500nm) 영역에서의 평균 투과도와 색도(b*)는 83.58% 와 0.05로 이중 버퍼층이 삽입되지 않은 ITO박막의 74.46% 와 4.28에 비해 상당히 향상된 결과를 나타내었다. 이를 통해 Nb2O5/SiO2 이중 버퍼층을 도입한 ITO박막에서 인덱스 매칭 효과로 인해 단파장 영역의 투과도 및 색도와 같은 광학적 특성이 현저히 향상되었음을 확인할 수 있었다.