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2006
기판 온도가 ZnO 박막의 특성에 미치는 영향
Influence of the Substrate Temperature on the Characterization of ZnO Thin Films
한국해양정보통신학회
정양희, 강성준
논문정보
- Publisher
- 한국해양정보통신학회논문지
- Issue Date
- 2006-12-27
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 10
- Number
- 12
- Start Page
- 2251
- End Page
- 2257
- DOI
- ISSN
- 12266981
Abstract
ZnO 박막을 RF sputtering 법을 이용하여 제작한 후, 기판 온도에 따른 결정성, 표면 형상, c축 배향성, 박막의 밀도 등을 조사하여 압전 소자로의 적용 가능성을 조사하였다. 본 연구에서는 Ar/O2 혼합비 70/30, sputtering 파워 125W, 공정 압력 8mTorr, 기판 타겟간 거리 70mm 로 공정 변수를 고정시키고, 기판 온도를 상온에서 400℃ 까지 변경하면서 ZnO 박막을 증착하였다. 기판온도가 300℃ 일 때, (002) 피크의 상대 강도비 (I(002)/I(100)) 가 94% 로 가장 크게 나타났으며, 이때의 반가폭은 0.571° 이었다. SEM 과 AFM 을 통한 표면 형상은 300℃ 일 때 균일한 입자형태를 띄면서 4.08nm 의 가장 우수한 표면 거칠기를 나타내었다. ZnO 박막의 밀도는 기판 온도가 상온에서부터 300℃ 까지 상승함에 따라 증가하는 추세를 나타내었으며, 이 후 기판 온도가 400℃ 로 증가하면 다시 감소하는 경향을 나타내었다.
- 전남대학교
- KCI
- 한국해양정보통신학회논문지
저자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 정양희 | 전기컴퓨터공학부 |
| 강성준 | 전기컴퓨터공학부 |