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2006
기판 온도가 ZnO 박막의 특성에 미치는 영향 Influence of the Substrate Temperature on the Characterization of ZnO Thin Films
한국해양정보통신학회
정양희, 강성준
논문정보
Publisher
한국해양정보통신학회논문지
Issue Date
2006-12-27
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
10
Number
12
Start Page
2251
End Page
2257
DOI
ISSN
12266981
Abstract
ZnO 박막을 RF sputtering 법을 이용하여 제작한 후, 기판 온도에 따른 결정성, 표면 형상, c축 배향성, 박막의 밀도 등을 조사하여 압전 소자로의 적용 가능성을 조사하였다. 본 연구에서는 Ar/O2 혼합비 70/30, sputtering 파워 125W, 공정 압력 8mTorr, 기판 타겟간 거리 70mm 로 공정 변수를 고정시키고, 기판 온도를 상온에서 400℃ 까지 변경하면서 ZnO 박막을 증착하였다. 기판온도가 300℃ 일 때, (002) 피크의 상대 강도비 (I(002)/I(100)) 가 94% 로 가장 크게 나타났으며, 이때의 반가폭은 0.571° 이었다. SEM 과 AFM 을 통한 표면 형상은 300℃ 일 때 균일한 입자형태를 띄면서 4.08nm 의 가장 우수한 표면 거칠기를 나타내었다. ZnO 박막의 밀도는 기판 온도가 상온에서부터 300℃ 까지 상승함에 따라 증가하는 추세를 나타내었으며, 이 후 기판 온도가 400℃ 로 증가하면 다시 감소하는 경향을 나타내었다.

저자 정보

이름 소속
정양희 전기컴퓨터공학부
강성준 전기컴퓨터공학부