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2017
비정질 텔루륨 산화물 박막 특성에 미치는 O2/Ar 가스비율의 영향
Effect of O2/Ar Gas Ratios on the Characteristics of Amorphous Tellurium Oxide Thin Films
한국전기전자재료학회
이현용 외 3명
논문정보
- Publisher
- 전기전자재료학회논문지
- Issue Date
- 2017-05-01
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 30
- Number
- 5
- Start Page
- 294
- End Page
- 300
- DOI
- ISSN
- 12267945
Abstract
텔루륨 산화물 박막은 TeO2와 Te 타겟을 활용하여 다양한 산소/아르곤 가스비율에 따라 스퍼터링 기법으로 성막되었다. XRD 결과는 텔루륨 산화물 박막이 비정질로 제작되었음을 보였다. 텔루륨 산화물 박막의 구조 및 화학조성비는 FT-IR과 XPS에 의해 연구되었다. 또한 산화물 박막의 광학 특성은 Ellipsometer와 UV-VIS-NIR로 연구되었다. 산소/아르곤 가스비율이 증가할수록, 텔루륨 산화물의 원자구성비는 두 영역(x=1-2, 2-3)으로 구분되었다. 텔루륨 산화물 박막의 광학특성은 두 영역에서 다른 특성을 보였다. 산소/아르곤 가스비율이 증가함에 따라, 굴절률은 감소하였으며, 광 밴드갭은 증가하는 경향을 보였다.
- 전남대학교
- KCI
- 전기전자재료학회논문지
저자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 이현용 | 화학공학부 |