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2019
공정압력이 SiO2 버퍼층을 갖는 PES 기판위에 증착한 ITZO 박막의 전기적 및 광학적 특성에 미치는 영향 Effect of Working Pressure on the Electrical and Optical Properties of ITZO Thin Films Deposited on PES Substrate with SiO2 Buffer Layer
한국전자통신학회
정양희, 강성준 외 1명
논문정보
Publisher
한국전자통신학회 논문지
Issue Date
2019-10-31
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
14
Number
05
Start Page
887
End Page
892
DOI
ISSN
19758170
Abstract
본 연구에서는 플라스틱 기판 중에서 가장 내열성이 우수하다고 알려진 PES 기판위에 버퍼층으로 20nm두께로 SiO2 박막을 플라즈마 화학기상증착 법으로 증착한 후, ITZO 박막을 고주파 마그네트론 스퍼터링 법으로 증착하여 공정압력에 따른 ITZO 박막의 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다. 공정압력 3mTorr 에서 증착한 ITZO 박막이 8.02×10-4Ω-cm의 비저항과 50.13Ω/sq.의 면저항으로 가장 우수한 전기적 특성을 보였다. 모든 ITZO 박막의 가시광 영역(400-800nm)에서 평균 투과도는 공정압력에 무관하게 80%이상으로 나타났다. 재료평가지수는 3mTorr에서 증착한 ITZO 박막에서 23.90×10-4Ω-1로 가장 큰 값을 나타내었다. 본 연구를 통해 ITZO 박막이 차세대 플렉시블 디스플레이 소자에서 ITO 박막을 대체할 매우 유망한 재료라는 것을 알 수 있었다.

저자 정보

이름 소속
정양희 전기컴퓨터공학부
강성준 전기컴퓨터공학부