본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터링 법을 이용하여 HfO2 박막을 제작하고, 질소 분위기에서 급속 열처리 온도에 따른 HfO2 박막의 구조적 및 광학적 특성을 조사하였다. XRD 측정을 통해 열처리 유무에 상관없이 HfO2 박막은 다결정 구조를 가짐을 확인할 수 있었고, 열처리 온도가 증가함에 따라 반가폭은 감소하는 추세를 나타내었다. 박막의 표면을 AFM 으로 조사한 결과, 600℃ 에서 열처리한 박막의 표면 거칠기가 3.454 nm 로 가장 작은 값을 나타내었다. 모든 HfO2 박막들은 가시광 영역에서 약 80% 정도의 투과도를 나타내었다. 또한 투과도와 반사도로부터 구한 굴절률과 셀마이어 분산 관계로부터, 파장에 따른 HfO2 의 굴절률을 예측할 수 있었다. 600℃ 에서 열처리 한 HfO2 박막이 2.0223 (λ=632 nm) 의 높은 굴절률과 0.963 의 높은 우수한 충진율을 나타내었다.