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2005
CVD법에 의해 성막된 구리의 표면 형상 및 충진 특성에 관한 연구
Surface Morphology and Hole Filling Characteristics of CVD Copper
한국화학공학회
김도형, 김진혁 외 3명
논문정보
- Publisher
- 화학공학
- Issue Date
- 2005-02-01
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 43
- Number
- 1
- Start Page
- 98
- End Page
- 102
- DOI
- ISSN
- 0304128X
- 전남대학교
- KCI
- 화학공학
저자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 김도형 | 화학공학부 |
| 김진혁 | 신소재공학부 |