본 논문에서는 Partial isolation lateral double diffused metal oxide semiconductor(Pi-LDMOS)의 항복전압에 대해 시뮬레이션을 통해 분석하였다. 항복전압 변화는 Partial buried oxide(P-BOX)의 다양한 파라미터(길이, 두께, 위치)에 따라 조사되었고, 그 메커니즘에 대해 명기하였다. 또한 항복전압과 trade-off 관계에 있는 온저항의 변화를 P-BOX 파라미터 변화에 따라 분석하였고 Figure of merit(FOM)을 계산하여 비교하였다. 제안된 구조에서 Lbox=5μm, tbox=2μm, Lbc=2μm일 경우 138V의 가장 높은 항복전압을 나타내었고, Lbox=5μm, tbox=1.6μm, Lbc=2μm일 경우 가장 높은 FOM을 나타내었다. 이는 conventional LDMOS대비 항복전압은 123%, FOM은 3.89배 향상된 수치이다. 따라서 Pi-LDMOS는 높은 항복전압과 FOM을 가져 Power IC의 안정적인 동작범위 향상에 기여할 수 있다.