티타늄 임플란트의 전통적인 전기화학적 표면 처리방법은 충분한 거칠기를 제공하는데 어려움이 있다. 본 연구에서는NaCl 전해질을 이용한 전기화학적 처리 방법과 열수처리 방법을 이용하여 마이크로-나노 복합 거칠기를 갖는 새로운임플란트 표면 처리 방법을 연구하였다. 상용 순 티타늄(commercially pure titanium; CP-Ti) 디스크 시편을 0.15MNaCl 전해질에서 전기펄스를 인가하여 양극 산화 (anodic oxidation; ANO) 처리를 하였다. 양극산화 처리 후 표면에느슨하게 부착된 산화물 화합물은 초음파 세척하여 제거하여 ANO 시편군을 제조하였다. 이 시편들을 알칼리 용액에침적하고 180℃에서 6시간 동안 열수(hydrothermal; HT) 처리하여 ANO-HT 시편군을 제조하였다. 마이크로아크산화(microarc oxidation; MAO) 처리한 MAO 시편군을 준비하였다. ANO군은 직경 약 30 μm의 오목한(dimple)한 표면을보여 주었고, 거칠기(Ra)는 약 2.4 μm이었다. ANO-HT군은 ANO군과 비슷한 거칠기(~2.7 μm)를 유지하고 있었으며,표면에 Anatase TiO2 결정 구조를 갖는 나노 크기의 결정들이 균일하게 분포되어 있었다. 또한 ANO 처리한 시편들은MAO 시편에 비하여 친수성이 높았으며, ANO-HT 시편은 가장 높은 친수성을 보여주었다. 이상의 결과, 새로운 전기화학적처리와 열수 처리 방법을 이용하여 거칠기와 친수성이 높은 티타늄 표면을 제조하였다. 이 표면 개질 방법은 티타늄임플란트의 골 전도를 향상시키는데 유용한 방법으로 사용될 수 있을 것으로 기대된다.