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2010
전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치의 구현
Implementation of Electron-beam Lithography by Using a Scanning Electron Microscope
한국물리학회
황인각
논문정보
- Publisher
- 새물리
- Issue Date
- 2010-08-31
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 60
- Number
- 8
- Start Page
- 930
- End Page
- 935
- DOI
- ISSN
- 03744914
Abstract
상용의 전계방출 전자현미경에 빔 제어 프로그램과 PC, 그리고 DAQ
card를 장착하여 전자빔 리소그래피 장비를 구성하였다. 전자현미경의
배율 설정에 따라 리소그래피가 가능한 최대 패턴 크기를 100 μm × 100 μm 에서 780 μm × 780 μm 까지 변화시킬 수 있었다. 또한 각 배율에 따라 최적화된 Dose값을 실험적으로
조사하였다. 마지막으로, 개발된 장치를 이용하여 수백 nm의 주기를 갖는
광자결정 구조를 성공적으로 제작하였다.
- 전남대학교
- KCI
- 새물리
저자 정보
| 이름 | 소속 |
|---|---|
| 황인각 | 물리학과 |