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2018
RF 마그네트론 스퍼터링법으로 제작한 산화아연 박막의 결정 구조 및 표면 특성 Crystal Structure and Surface Characteristics of ZnO Thin Films Deposited by Using RF Magnetron Sputtering
한국물리학회
이봉주, 이명복
논문정보
Publisher
새물리
Issue Date
2018-07-01
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
68
Number
7
Start Page
724
End Page
730
DOI
ISSN
0374-4914
Abstract
본 논문에서는 산화아연 박막의 결정 구조 및 표면형상에 따른 산화아연 박막 표면의 친$\cdot$소수성에 대하여 연구하고자 한다. RF 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)을 이용하여 Si 및 유리 (glass) 기판 위에 산화아연 박막을 증착하여, 스퍼터링 조건에 따른 결정 구조 및 배향성과 표면형상의 변화를 조사하였다. 스퍼터링 시에 분위기 혼합가스 중 아르곤과 산소 가스의 비율 변화에 따른 산화아연 박막의 표면 형상을 관찰한 결과, 산소 가스의 몰 비가 높아질수록 결정립이 작아지고 표면이 미세해졌다. XPS 분석 결과 혼합가스의 몰 비에 따른 산화아연 박막의 표면 화학결합 상태 및 조성은 변화하지 않았다. 산화아연 박막의 물방울과의 접촉각을 측정한 결과, 산화아연 박막 표면의 표면거칠기와 결정립이 작아질수록 접촉각이 커지는 경향을 나타내었다. 따라서, 산화아연 박막의 친소수성 여부는 결정 구조나 배향성, 표면원자의 화학결합 상태보다는 박막의 표면 형상 및 거칠기에 더 좌우되는 것으로 판단된다.

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