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2009
질소 상압플라즈마를 이용한 TiO2 박막의 표면개질 및 광활성 평가
Surface Modification of TiO2 Thin Films by N2 Atmospheric Plasma and Evaluation of Photocatalytic Activity
한국공업화학회
논문정보
- Publisher
- 공업화학
- Issue Date
- 2009-08-01
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 20
- Number
- 4
- Start Page
- 402
- End Page
- 406
- DOI
- ISSN
- 12250112
Abstract
상압플라즈마 공정을 이용하여 TiO2 박막의 표면을 개질하고 광촉매 활성을 평가하였다. TiO2 박막은 TiO2 졸-겔 용액에서 유리판에 dip-coating법으로 코팅한 후 소성 온도와 소성 시간을 변화시켜 가면서 제조하였다. 표면 개질에 사용된 플라즈마는 질소 플라즈마였으며, 방전전력, 처리시간 등의 공정변수를 변화시키면서 실험을 수행하였다. 광촉매 활성은 UV-A와 형광등 하에서의 메틸렌 블루 분해효율을 바탕으로 평가하였다. XPS 분석 결과, 박막의 표면에 소량의 질소가 도핑되었음을 알 수 있었으며, 광촉매 효율은 UV-A와 형광등 하에서 모두 증가하였고, 특히 형광등 하에서 좀 더 증가하였다.
- 전남대학교
- KCI
- 공업화학
저자 정보
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