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2007
평판형 AWG 기술을 이용한 광대역 파장다중화/역다중화 소자의 제작 및 특성
？Performance of CWDM Fabricated by the PLC-AWG Technology
한국광학회
논문정보
- Publisher
- 한국광학회지
- Issue Date
- 2007-06-01
- Keywords
- -
- Citation
- -
- Source
- -
- Journal Title
- -
- Volume
- 18
- Number
- 3
- Start Page
- 185
- End Page
- 189
- DOI
- ISSN
- 12256285
Abstract
평판형 AWG(Arrayed Waveguide Grating) 기술을 이용한 새로운 CWDM(Coarse Wavelength Division Multiplexer) 소자의 제작
기술을 제안한다.슬랩 도파로 입력단에 나팔형태를 갖는 도파로에 대하여 광전파방법(BPM)에 의한 전산모사 결과와 투과대역이
평탄화된 20 nm 간격의 CWDM 소자의 제작 결과를 보고한다. 0.75 Δ%의 박막을 사용하였으며, 소자의 삽입손실은 가우시안 형태
에 대하여 3.5 dB와 평탄화된 형태에 대하여 4.8 dB를 각각 얻었으며, 3 dB 대역폭은 각각 10 nm 및 13 nm 이상의 결과를 얻었다.
- 전남대학교
- KCI
- 한국광학회지
저자 정보
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