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2006
DC magnetron sputtering 방법으로 형성한 Indium-Tin-Oxide(ITO) 박막의 특성 연구 A Study on the Properties of Indium-Tin-Oxide(ITO) Films Deposited by DC magnetron sputtering method
한국해양정보통신학회
논문정보
Publisher
한국해양정보통신학회논문지
Issue Date
2006-03-01
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
10
Number
3
Start Page
473
End Page
478
DOI
ISSN
12266981
Abstract
DC 마그네트론 스퍼터링 방법으로 ITO 박막을 형성하였다. 박막 형성 시 스퍼터 전압을 변화시켜 음이온에 의한 손상을 최소화 하였으며, 또한 기판온도와 산소유입량을 변화시켜 비저항 1.6×10 -4 Ωcm, 광투과도 90 % 이상의 값을 갖는 양질의 박막을 형성할 수 있었다. 박막 형성 시 O2 가스의 유량이 4 sccm 이상으로 산소공급이 과다할 경우는 ITO 박막의 비저항이 증가하고, 광 투과도가 포화됨을 알 수 있었다.
  • 전남대학교
  • KCI
  • 한국해양정보통신학회논문지

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