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2000
SF6/Cl2 혼합비에 따른 실리콘 식각 특성 고찰 A study on the silicon etching characteristics in ECR using SF6/Cl2 gas mixture
한국전기전자재료학회
논문정보
Publisher
전기전자재료학회지
Issue Date
2000-02-01
Keywords
-
Citation
-
Source
-
Journal Title
-
Volume
13
Number
2
Start Page
114
End Page
119
DOI
ISSN
12267937

저자 정보

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